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氧化铝陶瓷制备工艺优化及其对表面有害斑点的抑制

时间:2025-12-15

  摘要

  氧化铝陶瓷因其高硬度、耐磨性、耐腐蚀性及好的电绝缘性能,被广泛应用于电子器件、机械密封、生物医疗及航空航天等领域。然而,在烧结过程中常因原料纯度、工艺控制不当等因素产生各种有害斑点(如黑斑、白斑、色差区),这些缺陷显著降低了材料的力学性能、电学均一性及外观品质,是制约高端氧化铝陶瓷产品良率与可靠性的关键瓶颈。本文旨在系统探讨有害斑点的成因,并通过优化原料处理、成型工艺及烧结制度等关键环节,提出一套具体的工艺改进方案。实验通过引入高纯α-Al₂O₃粉体(纯度≥99.99%),结合粒度分布控制(D50=0.5μm)与有机物杂质定向清除技术,并采用两步烧结法(第一阶段:1650°C,保温1小时;第二阶段:1550°C,保温4小时)替代传统恒温烧结。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱分析(EDS)及X射线衍射分析(XRD)对样品进行结构表征。结果表明,优化后的工艺使有害斑点的面积占比从传统工艺的约1.5%降至0.2%以下,三点弯曲强度从350 MPa提升至420 MPa,体积密度达到3.92 g/cm³。本研究为工业化生产高品质氧化铝陶瓷提供了具体的数据支持和工艺路径。

  1. 实验过程

  实验过程围绕原料筛选、坯体制备、烧结工艺及后处理四个核心阶段展开,每一阶段均设置了具体的控制参数与对比实验,以精确追踪有害斑点的产生环节并实施干预。

  1.1 原料选择与预处理

  主原料:实验选用两种不同纯度的氧化铝粉体进行对比:

  添加剂:引入0.5 wt%的高纯MgO作为晶粒生长抑制剂,以及1.0 wt%的特定烧结助剂(由SiO₂-CaO-MgO系玻璃粉构成,纯度99.9%)。

  预处理工艺:

  1.2 成型与素坯处理

  成型方法:采用干压成型(压力100 MPa)与冷等静压(CIP,压力200 MPa)相结合的方式,制备φ50 mm × 5 mm的圆片试样。此组合工艺旨在消除干压可能导致的密度梯度,减少因坯体密度不均引发的后期烧结斑点。

  素坯检测:利用工业CT对关键样品素坯进行无损扫描,确保内部无明显硬团聚或异物。对比发现,B组粉体素坯的密度均匀性比A组提高约15%。

氧化铝陶瓷棒.jpg

  1.3 烧结工艺优化

  烧结是斑点形成的关键阶段。实验设计了三种烧结制度:

  方案一(传统工艺):空气气氛,以5°C/min升温至1750°C,保温2小时,随炉冷却。

  方案二(优化升温制度):空气气氛,在300-600°C有机物分解关键区间,将升温速率降至1°C/min,之后以5°C/min升至1650°C,保温2小时。

  方案三(两步烧结法):空气气氛,以10°C/min快速升温至1650°C(T1),保温1小时,以抑制表面扩散导致的初始不均匀致密化;随后迅速降至1550°C(T2),长时间保温4小时,以体扩散为主导完成致密化同时抑制晶粒异常长大。

  所有样品均使用同一高性能氧化铝纤维窑炉,并采用高纯氧化铝垫板,避免垫板杂质污染。

  2. 结构分析:

  烧结后样品经过抛光、热腐蚀处理后,进行系统的微观结构及成分分析。

  2.1 微观形貌与斑点表征(SEM & EDS分析)

  A组(传统原料与工艺):SEM照片显示样品表面存在大量尺寸在10-50μm不等的深色斑点(图1a)。对该区域进行EDS面扫与点分析,发现斑点中心部位Fe、Si元素含量显著高于基体(例如,某黑斑处Fe含量高达1.2 at.%),而基体区域Al和O元素分布均匀。这些斑点对应着杂质富集区,在烧结过程中形成了低熔点相或气孔簇。

  B组(高纯原料+两步烧结):SEM照片显示陶瓷表面均匀,晶粒尺寸分布窄,平均晶粒尺寸约3.5μm,无明显异常大晶粒(图1b)。仅在极个别位置发现<5μm的微小色差,eds分析显示其成分与基体无显著差异,推测为微观气孔所致。统计数据显示,在10个随机视野(每个1>10μm的缺陷)的覆盖面积占比从A组的平均1.47%降至B组的0.18%。

  2.2 物相与晶体结构分析(XRD分析)

  所有样品的XRD图谱均以α-Al₂O₃(刚玉相)为主衍射峰,未检测到明显的其他结晶相(如β-Al₂O₃)。然而,对A组样品斑点处进行微区XRD分析,发现了非晶相的“馒头峰”,印证了EDS结果中杂质形成玻璃相的判断。B组样品整体及微区XRD谱线均纯净,表明高纯原料和优化工艺有效抑制了杂相生成。

  2.3 致密度与力学性能关联分析

  通过阿基米德排水法测量体积密度,B组(方案三)样品平均密度为3.92 g/cm³,达到理论密度的99.2%以上;而A组(方案一)平均密度为3.85 g/cm³(约97.5%)。

  三点弯曲强度测试(跨距30mm,加载速率0.5 mm/min)表明,B组样品平均强度为420 ± 15 MPa,显著高于A组的350 ± 25 MPa。断口分析显示,A组样品的断裂源多起源于上述有害斑点处,裂纹易于沿杂质相扩展;B组样品断口则表现为典型的穿晶断裂,体现了基体本身的强度。

  3. 结论

  本研究通过系统的实验设计与结构分析,得出以下具体结论:

  有害斑点的本质与主要成因:氧化铝陶瓷中的有害斑点主要源于原料中的金属杂质(如Fe、Si、Na等)在烧结过程中的局部富集,形成成分、结构与基体不同的区域。这些区域在热应力或外加负载下易成为裂纹源,严重损害材料性能。案例表明,一个直径30μm的富铁斑点可使局部强度下降超过40%。

  工艺优化对提升质量的具体贡献:

  量化效益与推广应用场景:通过实施上述集成优化方案,成功将有害斑点的面积占比从约1.5%控制在0.2%以下,材料弯曲强度提升约20%,体积密度达到3.92 g/cm³。此成果对于要求极高的应用场景具有明确价值,例如:

  综上所述,通过构建“高纯原料→均匀成型→精密烧结”的全流程控制链,并量化各环节的关键参数,能够有效抑制氧化铝陶瓷有害斑点的产生,全面提升其综合性能与可靠性,满足日益增长的高端应用需求。未来的研究可进一步探索微波烧结、放电等离子烧结(SPS)等新型烧结技术对斑点抑制的潜力。


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